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苏大维格:公司主要在AMOLED用镂空掩模版领域进行了技术研发与布局 目前相关技术处于进一步研发阶段


  每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:贵公司是否承担了江苏省关键核心技术攻关项目“面向IC掩膜版和微纳光学器件制备的高精度直写光刻设备”的研发?IC掩膜版与公司已研发成功的OLED掩膜版有何不同?项目进展如何?OLED掩膜版何时能够量产?

  苏大维格(300331.SZ)3月31日在投资者互动平台表示,根据公司与相关单位之间的保密约定,相关信息不便披露。此外,现阶段公司主要在AMOLED用镂空掩模版领域进行了技术研发与布局,目前相关技术处于进一步研发阶段。

(文章来源:每日经济新闻)

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